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【2h】

N, NH, and NH2 radical densities in a remote Ar-NH3-SiH4 plasma and their role in silicon nitride deposition

机译：远端Ar-NH3-SiH4等离子体中的N，NH和NH2自由基密度及其在氮化硅沉积中的作用

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Oever, van den, PJ Peter; Helden, van, JH Jean-Pierre; Hemmen, van, JL Hans; Engeln, RAH Richard; Schram, DC Daan; Sanden, van de, MCM Richard; Kessels, WMM Erwin;
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年度 2006
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